Titan-SaphirOszillatoren
Griffin
Die Griffin™ Titan-Saphir Oszillatoren bieten dem Kunden die komplette Kontrolle über das System, sind wartumgsarm und bieten eine große Bandbreite an Spezifikationen für verschiedene Applikationen. Die Prisma basierten Oszillatoren nutzen Kerr-Lens-Modelockinng um ultrakurze Pulser <12 fs zu erzeugen. Alle Griffin Laser benutzen wassergekühlte Breadboards für die beste Lagzeitstabilität und bieten die Computersteuerung der Wellenlänge und Bandbreite. Die Griffin Laser sind sehr einfach zu warten, da die einzelnen Komponenten sehr einfach zugänglich sind.
Merkmale:
- Computersteuerung der Zentralwellenlänge und der Bandbreite
- Pulslänge <12 fs
- Leistung bis zu 1,4 W mit 80 - 95 MHz Wiederholrate
- Bandbreite bis zu 700 - 920 nm
Download: KMLabs Griffin Datenblatt
Halcyon
Der Halcyon™ Oszillator mit stabilisierter Wiederholrate ist für Anwendungen gedacht bei denen der Oszillator zu einer externen Quelle z.B. zu einem anderen Laser oder einem Synchrotron synchronisiert werden muss. Die integrierte Elektronik synchronisiert den Output zum Referenzsignal mit einem Kitter < 150 fs. Die Stabilisierung wird durch mehrere Komponenten gesichert. Dazu gehören u.A. das gekühlte Breadboard, ein motorisierter Verschiebetisch für grobes Feedback und ein Spiegel auf einem Piezo für feines Feedback. Durch das flexible Design können Referenzsignale über den ganzen Bereich von 75 MHz bis 4GHz verwendet werden.
Merkmale:
- Computersteuerung der Zentralwellenlänge und der Bandbreite
- Pulslänge <12 fs (<10 fs optional)
- Exzellente Strahlqualität M² < 1.2
- Leistung bis zu >1,4 W
- Einstellbare Wiederholrate im Bereich 75 - 102 MHz
- Stabilisierte Wiederholrate
- Geringer Jitter <150 fs
Download: KMLabs Halcyon Datenblatt
Stryde
Neu seit 2017 bietet KMLabs den Stryde™. Dies ist ein abstimmbarer Ultrakurzpuls Titan-Saphir Oszillator. Es handelt sich um eine vollintegrierte kommerzielle Lösung auf einer robusten optomechanischen Plattform.
Merkmale:
- Computergesteuerte Zentralwellenlänge und Bandbreite
- Pulslänge <12 fs
- Ausgezeichnete Strahlqualität M² < 1.2
- Power up to >500 mW
- Maximum pulse energy >6 nJ
- One-box configuration with integrated pumps
Overview: KMLabs Stryde Datasheet
RAEA Titan-Saphir VerstärkerVerstärker
RAEA™, das neuste Titan-Saphir Verstärkersystem von KMLabs basiert auf einem single-box Design. Es ist ein vollintegriertes System auf Basis einer robusten, industriellen Architektur und bietet unerreichte Leistungen >20 W. Das hochflexible System bietet die volle Leistung während Sie die Energie auf Ihr Experiment anpassen können. Somit kann die Messzeit deutlich verringert werden.
Merkmale:
- Computersteuerbare Zentralwellenlänge, Bandbreite, Leistung, Strahlqualität und Wiederholrate
- Pulse <35 fs, <25 fs möglich
- Geringer Pulssockel und Exzellente Strahlqualität M² <1,3
- Temperaturstabilisierte Plattform
- Leistungsstabilität <0,5% RMS
- Pointing <10 µrad RMS
- Cryo-gekühlter Verstärker bietet hohe Flexibilität und Pulsqualität
- Pulsprofil qualifiziert mit FROG
- Optimiert um XUUS4 für high-harmonig Generation zu pumpen
Download: KMLabs RAEA
EUV- und Röntgen-Quelle
XUUSTM
XUUSTM ist eine Kohärente Quelle für Licht im extremen ultravioletten (EUV) und Röntgenbereich. Die Konversion basiert auf der Erzeugung hoher Harmonischer in einem patentierten Waveguide.
Merkmale:
- Verfügbare Wellenlängen: 10 - 47 nm (26 - 124 eV), 4 - 10 nm (124 - 300 eV) und 1 - 10 nm (120 - 1000 eV)
- Stabilität: Leistung <5 % RMS, Pointing <10 µRad über 12 Stunden
- Wiederholraten zwischen 1 kHz und 100 kHz möglich
- Hochkohärente laserartige Strahlung mit stabiler Wellenfront
- Photonenflux >5*1012/s im EUV möglich
- Minimierter Gasverbrauch
Download: XUUS Datenblatt
Einen interessanten Fachartikel über die Nutzung des XUUS für EUV Mikroskopie finden Sie im Photonicsviews Magazin.
Pantheon
Bei KMLabs Pantheon™ handelt es sich um eine gepulste EUV Quelle, die die Notwendigen Komponenten zur Erzeugung als auch eine Beamline enthält. Die einzelnen Pulse haben eine Länge im Femtsosekundenbereich in einem kohärenten leicht fokussierbaren Strahl.
Die EUV Photonen werden durch die high-harmonic Generation von einem Ultrakurzpulslaser mit 800nm erzeugt. Pantheon enthält zusäzlich alle nötigen Optiken um die Fundamentale von den Harmonischen zu trennen. Das restliche Licht kann aber auch durch einen alternativen Weg zur Verfügung gestellt werden für weitere Experimente.
Merkmale:
- Kommerzielle, durchstimmbare EUV Quelle
- Laserähnliche EUV Lichtquelle mit räulicher und zeitlicher Kohärenz.
- Einfach verfügbares EUV Licht
- Einzigartige Stabilität
QuantumMicroscope
KMLabs QM Quantum MicroscopeTM ist eine kommerzielle Plattform, die ultraschnelle EUV Spektroskopie und Nanomikroskopie nahe der Oberfläche ermöglicht. Mögliche Untersuchungen sind 2D Mikroskopie con Zusammensetzung und Struktur mit hohem Kontrast, Untersuchung der mechanischen Eigenschaften von strukturierten Filmen und Materialeigenschaften und die Charakterisierung von fortschrittlichen Nanomaterialien.
Durch die Kombination der ultraschnellen Auflösung von Femtosekundenlasern mit der räumlichen Auflösung von EUV Mikroskopie und Beugung ermöglicht das QM eine Reihe von Techniken, die auf Probleme in der modernen Forschung und Entwicklung abgestimmt sind. Für Batterietechnik z.B. liefert EUV Absorption vielfältige Information über Lithiumbindungen und bei Halbleitern liefert das QM wichtige Informationen zur Nanotopographie.
Das QM ist komplett konfigurierbar und enthält eine Laserquelle zur Erzeugung von EUV und VUV, eine Beamline für Ihr Experiment und Mikroskopie oder andere Experimentierstationen. .
QM Quantum Microscope Vorteile
- Zerstörungsfreie Abbildung im Nanometerbereich mit Zeitauflösung
- Einzigartige Mikroskopie der Oberflächentopographie
- Eine oder mehr Beamlines, angepasst auf Ihre Anforderungen
- Beugung für Nanometerstrukturen
- Pump-probe Experimente
- Hochauflösende Messungen von magnetischen Systemen
Anwendungen
- Coherent diffraction imaging (CDI)
- Pump probe spectroscopy
- Magnetic dynamics
- ARPES
- MOKE diffraction and magnetic imaging
- Reflectometry
- Magnetic imaging at band edge
- IR pump/EUV probe diffraction imaging for thermomechanical and elastic data
- High speed spin transport dynamics
Vorteile
- Vollintegrierte EUV Quelle
- Hochauflösende interferometrische Abbildung der Oberfläche und darunter
- X/Y Auflösung bis <20nm
- Anpassbare Endstationen für Ihr Experiment
- Pump Probe Design (XUV Probe, NIR Pump)
- Erweiterbar zu VUV (60 - 150 nm oder 8.3 to 20.7 eV)
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